Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Холупова, К. - Создатели российской атомной бомбы построят установки для производства чипов на замену американск...
Холупова, К. - Создатели российской атомной бомбы построят установки для производства чипов на замену американск...
Нет экз.
Статья
Автор: Холупова, К.
Создатели российской атомной бомбы построят установки для производства чипов на замену американск... : [электронный документ]
2026 г.
ISBN отсутствует
Автор: Холупова, К.
Создатели российской атомной бомбы построят установки для производства чипов на замену американск... : [электронный документ]
2026 г.
ISBN отсутствует
Статья
Холупова, К.
Создатели российской атомной бомбы построят установки для производства чипов на замену американским и японским: [электронный документ] / Холупова К. // CNews. – 2026. – №0. – 3 августа. - 654678. – На рус. яз.
Разработка Российским федеральным ядерным центром ВНИИЭФ, ставшим победителем конкурса Минпромторга, автоматизированной установки жидкостного химического травления полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм, заменяющий американские и японские системы. Сумма контракта - 1,43 млрд. рублей, со сроком завершения - до 30 ноября 2029 г. Оборудование, предназначенное для химического травления, очистки, промывки и сушки пластин в составе серийных технологических маршрутов микроэлектроники. Установка должна обеспечивать обработку до 100 пластин за цикл (до 4 кассет), работу с химическими реагентами (HF, H2SO4, H2O2, HCl, NH4OH) при температуре до 160°C, а также обеспечивать автоматическую загрузку и выгрузку пластин с использованием SMIF-загрузчика.
Ключевые слова = ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОНТРАКТ
Ключевые слова = ИМПОРТОЗАМЕЩЕНИЕ
Ключевые слова = МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
Ключевые слова = МИНПРОМТОРГ РОССИИ
Ключевые слова = НОВИКОВА Н.П.
Ключевые слова = ПОЛУПРОВОДНИК
Ключевые слова = РОССИЙСКАЯ ПРОДУКЦИЯ
Ключевые слова = ЯДЕРНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ
Ключевые слова = ТЕХНИКА. ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ В ОТРАСЛЯХ ПРОМЫШЛЕННОСТИ
Холупова, К.
Создатели российской атомной бомбы построят установки для производства чипов на замену американским и японским: [электронный документ] / Холупова К. // CNews. – 2026. – №0. – 3 августа. - 654678. – На рус. яз.
Разработка Российским федеральным ядерным центром ВНИИЭФ, ставшим победителем конкурса Минпромторга, автоматизированной установки жидкостного химического травления полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм, заменяющий американские и японские системы. Сумма контракта - 1,43 млрд. рублей, со сроком завершения - до 30 ноября 2029 г. Оборудование, предназначенное для химического травления, очистки, промывки и сушки пластин в составе серийных технологических маршрутов микроэлектроники. Установка должна обеспечивать обработку до 100 пластин за цикл (до 4 кассет), работу с химическими реагентами (HF, H2SO4, H2O2, HCl, NH4OH) при температуре до 160°C, а также обеспечивать автоматическую загрузку и выгрузку пластин с использованием SMIF-загрузчика.
Ключевые слова = ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОНТРАКТ
Ключевые слова = ИМПОРТОЗАМЕЩЕНИЕ
Ключевые слова = МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
Ключевые слова = МИНПРОМТОРГ РОССИИ
Ключевые слова = НОВИКОВА Н.П.
Ключевые слова = ПОЛУПРОВОДНИК
Ключевые слова = РОССИЙСКАЯ ПРОДУКЦИЯ
Ключевые слова = ЯДЕРНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ
Ключевые слова = ТЕХНИКА. ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ В ОТРАСЛЯХ ПРОМЫШЛЕННОСТИ

На полку
